2018未來(lái)科學(xué)大獎(jiǎng)：數(shù)學(xué)與計(jì)算機(jī)科學(xué)獎(jiǎng) | 視頻
獲獎(jiǎng)理由：“數(shù)學(xué)與計(jì)算機(jī)科學(xué)獎(jiǎng)”表彰他開(kāi)拓浸潤(rùn)式微影系統(tǒng)方法，持續(xù)擴(kuò)展納米級(jí)集成電路制造，將摩爾定律延伸多代。
林本堅(jiān)博士一系列突破性的創(chuàng)新所開(kāi)拓的浸潤(rùn)式微影（也稱(chēng)光刻）方法，革新了集成電路的制程，使先進(jìn)半導(dǎo)體芯片的特征尺寸能持續(xù)縮減為細(xì)微納米量級(jí)，在過(guò)去十五年以及可預(yù)見(jiàn)的未來(lái)，為建造最強(qiáng)大的計(jì)算和通信系統(tǒng)做出了關(guān)鍵貢獻(xiàn)。
傳統(tǒng)的“干式”微影自1959年半導(dǎo)體工業(yè)界發(fā)明平面積成電路以來(lái)被持續(xù)使用了四十年，然而受限于基本光學(xué)衍射，在90年代后期，用該方法制造特征尺寸小于65納米的芯片面臨無(wú)法逾越的瓶頸。林本堅(jiān)博士預(yù)見(jiàn)昂貴的“干式”微影技術(shù)將進(jìn)入死角，建議使用浸潤(rùn)式或「濕式」微影，該方法是一種新的微影工序，透過(guò)液體介質(zhì)置換透鏡和晶圓表面之間的氣隙以提高光學(xué)解析精度。雖然原始的浸潤(rùn)式概念在80年代曾提出過(guò)，但距離可實(shí)現(xiàn)的方法很遠(yuǎn)。為使得全面表征及優(yōu)化浸潤(rùn)式微影系統(tǒng)，林本堅(jiān)定義了并導(dǎo)出了關(guān)鍵性能指標(biāo)和縮放公式，為極高解析度的三維浸潤(rùn)式微影光學(xué)系統(tǒng)規(guī)范了必須遵行的縮放定律。他還研發(fā)出克服液體中微氣泡形成的方法，開(kāi)拓了在熱力學(xué)極限下，經(jīng)由水而衍射的微影工序。他的一系列發(fā)明在科學(xué)和工程上證實(shí)了“濕式”微影方法可用于最先進(jìn)的IC制程，他的突破性發(fā)明和持久的技術(shù)引領(lǐng)促使全球半導(dǎo)體工業(yè)界改用“濕式”微影方法。在過(guò)去的十五年中浸潤(rùn)式微影方法用最有成本效益的193nm ArF為激光源顯影，將IC技術(shù)節(jié)點(diǎn)從65nm循產(chǎn)業(yè)路線圖持續(xù)降至7nm，使得摩爾定律得以持續(xù)延伸了七代。根據(jù)IEEE近期的數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)，浸潤(rùn)式微影技術(shù)制造了至少世界上80％的晶體管。
自六十年前發(fā)明集成電路以來(lái)，半導(dǎo)體技術(shù)推動(dòng)了人類(lèi)歷史上最大的工業(yè)及社會(huì)化革命。在我們慶祝集成電路誕生六十周年之際，將未來(lái)科學(xué)大獎(jiǎng)的數(shù)學(xué)和計(jì)算機(jī)科學(xué)獎(jiǎng) - 授予這位極具成就的科學(xué)家和發(fā)明家，半導(dǎo)體工業(yè)界的英雄，「浸潤(rùn)式微影之父」不僅恰當(dāng)且意義深遠(yuǎn)。
注：本文內(nèi)容來(lái)自“未來(lái)論壇”。
httpszhuanlan.zhihu.comp110897433 費(fèi)馬大定理證明了全世界數(shù)學(xué)家都是白癡